特許

J-GLOBAL ID：200903097722357794

X線分析顕微鏡

発明者： 川浪 義実 ,  長谷川 正樹 ,  米山 明男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-331480
公開番号（公開出願番号）：特開平9-171100
出願日： 1995年12月20日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】平面分解能のより高いX線分析顕微鏡を提供する。【解決手段】電子光学系7の試料4に近い部分の電極15を、X線の集光ミラーを兼ねる形状とし、試料に照射するX線3の強度を高めると共に電子光学系7の作動距離を短くする。【効果】半導体素子等の微細な構造の分析が可能となる。

請求項（抜粋）：

試料にX線を照射する手段と、該試料から発生する電子を結像する電子光学系とを備えたX線分析顕微鏡において、前記電子光学系の一部が、X線の集光ミラーであることを特徴とするX線分析顕微鏡。

IPC (4件)：

G21K 7/00 ,  G01N 23/227 ,  G21K 1/06 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G21K 7/00 ,  G01N 23/227 ,  G21K 1/06 M ,  H01L 21/66 L