特許
J-GLOBAL ID：200903097731736307
位置計測装置、位置計測方法および露光装置、露光方法並びに重ね合わせ計測装置、重ね合わせ計測方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外1名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000001760
公開番号（公開出願番号）：WO2000-057126
出願日： 2000年03月23日
公開日（公表日）： 2000年09月28日
要約：
【要約】位置計測装置は、物体W上に形成されたマークに対して検知ビームを照射することで得られるマーク信号を用いて、マークの位置に関するマーク位置情報を算出する算出部19と、マーク信号の非対称性に基づいて、算出部19の算出結果を補正する補正手段19を備える。これにより、非対称性による位置ずれを検出し、補正することで像の非対称性が計測へ及ぼす影響を低減させることができるので、より正確で高精度のアライメントを実施することができ、検知光学系のNAを大きくしたり、特別な短波長光源を用意したりする必要がなくなり、装置の大型化およびコストアップを防止できる。
請求項（抜粋）：
物体上に形成されたマークに対して検知ビームを照射することで得られるマーク信号を用いて、前記マークの位置に関するマーク位置情報を算出する算出部を有する位置計測装置において、 前記マーク信号の非対称性に基づいて、前記算出部の算出結果を補正する補正手段を備えることを特徴とする位置計測装置。
IPC (4件)：
G01B 11/00
, G03F 9/00
, H01L 21/027
, H01L 21/66
G01B 11/00 C
, G03F 9/00 A
, H01L 21/66 Z
, H01L 21/30 525 W
