特許
J-GLOBAL ID:200903097753099530

沈降シリカ合成法及びその使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  長沼 暉夫 ,  礒山 朝美
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-534211
公開番号(公開出願番号):特表2004-510679
出願日: 2001年10月12日
公開日(公表日): 2004年04月08日
要約:
重合体材料に入れる補強用充填剤として使用される改良された化学的及び物理的性質を有する沈降シリカの合成が記載されている。それら性質の改良は、減少したイオン強度でのシリカの合成に起因する。特に、合成中に珪酸を使用することは、アグリゲート化の増大とアグロマレート化の減少により改良されたコロイド構造の形成に都合のよい減少したイオン強度の溶液を与える。更に、沈降シリカの希望の補強性を更に向上させるため、合成中に表面変性剤を添加することにより、形成されるシリカ沈澱物の表面を変性する。本発明は、減少したイオン強度で合成し、変性した表面を有する沈降シリカを含む組成物を重合体化合物と組合せて用い、改良された抗張力及び伸び強度を有する重合体組成物も包含する。
請求項(抜粋):
シリカ沈澱物を形成するのに充分な量で珪酸を珪酸塩溶液へ添加する工程を行う、シリカ沈澱物合成法。
IPC (3件):
C01B33/158 ,  C08K3/36 ,  C08L101/00
FI (3件):
C01B33/158 ,  C08K3/36 ,  C08L101/00
Fターム (25件):
4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072CC10 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH17 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ15 ,  4G072LL06 ,  4G072MM01 ,  4G072MM22 ,  4G072MM23 ,  4G072MM31 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR05 ,  4G072RR06 ,  4G072RR12 ,  4G072RR15 ,  4G072SS01 ,  4G072SS07 ,  4G072TT01 ,  4G072TT06 ,  4G072UU08 ,  4J002AC001 ,  4J002DJ016

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