特許

J-GLOBAL ID：200903097765301911

液浸型露光装置

発明者： 牛田 一雄 ,  諏訪 恭一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-121757
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303114
出願日： 1997年04月23日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】結像性能の劣化を招くことのない液浸型露光装置を提供する。【解決手段】レチクルR上に描画されたパターンPaをウエハW上に焼付転写する投影光学系PLを有し、該投影光学系のウエハに最も近接したレンズ面PeとウエハWとの間のワーキングディスタンスのうちの少なくとも一部分を、露光光ILを透過する液体LQで満たした液浸型露光装置において、ワーキングディスタンスの長さをLとし、露光光ILの波長をλとし、液体LQの屈折率の温度係数をN(1/°C)としたとき、L≦λ/(0.3×|N|)となるように形成したことを特徴とし、また、液体LQとして、純水の表面張力を減少させ又は純水の界面活性度を増大させる添加剤を純水に添加したものを用いたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

レチクル上に描画されたパターンをウエハ上に焼付転写する投影光学系を有し、該投影光学系のウエハに最も近接したレンズ面と前記ウエハとの間のワーキングディスタンスのうちの少なくとも一部分を、露光光を透過する液体で満たした液浸型露光装置において、前記ワーキングディスタンスの長さをLとし、前記露光光の波長をλとし、前記液体の屈折率の温度係数をN(1/°C)としたとき、L≦λ/(0.3×|N|)となるように形成したことを特徴とする液浸型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 518