MALDI質量分析法のためのマトリックス干渉の軽減

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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-523898
公開番号（公開出願番号）：特表2007-502980
出願日： 2004年08月09日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：

本教示は、分子のマトリックス支援レーザー脱離イオン化(MALDI)質量分析法のために有用なプレートおよびそのプレートを作製するためのプロセスに関する。疎水性コーティングおよびMALDIマトリックス材料とポリマーのような境界剤との混合物の薄膜コーティングを含む複合コーティングを備える、MS分析またはMS-MS分析のために適したMALDIプレートが開示される。本教示に従って作製されるMALDIプレートは、MALDI-MSスペクトルの低質量領域(1,000ダルトン未満)におけるマトリックスイオンの抑制のために有用である。

請求項（抜粋）：

MALDI分析のためのサンプルプレートであって、該サンプルプレートは、第一の表面を有する導電性の基板を備え、該第一の表面の少なくとも一部が、疎水性コーティングおよびマトリックスと境界ポリマーとの薄膜混合物のコーティングを含む複合コーティングでコーティングされている、サンプルプレート。

IPC (2件)：

G01N 27/62 , H01J 49/16

FI (3件)：

G01N27/62 F , H01J49/16 , G01N27/62 V

Fターム (16件)：

2G041CA01 , 2G041DA04 , 2G041DA05 , 2G041DA18 , 2G041EA01 , 2G041EA04 , 2G041FA07 , 2G041GA03 , 2G041GA06 , 2G041GA08 , 2G041GA09 , 2G041HA01 , 2G041JA06 , 2G041JA07 , 2G041JA08 , 5C038GG07

引用特許：

審査官引用 (4件)

レーザー脱離/イオン化質量分析用試料ホルダーおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-165821 出願人：三星電子株式会社
微細で均一な結晶を形成するためのカーボン製支持板及びその応用
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-182638 出願人：アプライドバイオシステムズジャパン株式会社
疎水性MALDIプレートおよびMALDIプレートを疎水性にするためのプロセス
公報種別：公表公報出願番号：特願2004-530991 出願人：パーセプティブバイオシステムズ,インコーポレイテッド

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引用文献：

審査官引用 (3件)

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