特許

J-GLOBAL ID：200903097775333510

コールドスプレー方法、コールドスプレー装置

発明者： 榊原 洋平 ,  久布白 圭司 ,  佐藤 彰洋 ,  吉澤 廣喜
出願人/特許権者： 株式会社IHI
代理人 (2件)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-152894
公開番号（公開出願番号）：特開2008-302317
出願日： 2007年06月08日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：

【課題】材料粉末の付着効率を確実に向上させることができ、また、均一な品質の皮膜を形成することができるコールドスプレー装置、方法を提案する。【解決手段】材料粉末Aをノズルから高速で噴射して基材B上に堆積させるコールドスプレー装置1において、基材Bを材料粉末Aの融点以下の第一所定温度に加熱する基材加熱部50と、基材B向けて材料粉末Aを噴射するコールドスプレー部10と、を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

材料粉末をノズルから高速で噴射して基材上に堆積させるコールドスプレー方法において、 前記基材を第一所定温度に温度制御する第一工程と、 前記基材に向けて前記材料粉末を噴射する第二工程と、 を有することを特徴とするコールドスプレー方法。

IPC (3件)：

B05D 1/06 ,  C23C 24/08 ,  B05B 7/14

FI (3件)：

B05D1/06 Z ,  C23C24/08 A ,  B05B7/14

Fターム (33件)：

4D075AA02 ,  4D075AA84 ,  4D075AA86 ,  4D075BB23X ,  4D075BB93X ,  4D075EA02 ,  4D075EB57 ,  4F033QA01 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB05 ,  4F033QB12Y ,  4F033QB13Y ,  4F033QB19 ,  4F033QD02 ,  4F033QD14 ,  4F033QE06 ,  4F033QH02 ,  4F033QH05 ,  4K044AA01 ,  4K044AA02 ,  4K044AA06 ,  4K044AA11 ,  4K044AA13 ,  4K044AB02 ,  4K044BA01 ,  4K044BA06 ,  4K044BA08 ,  4K044BA10 ,  4K044CA21 ,  4K044CA23 ,  4K044CA24 ,  4K044CA25 ,  4K044CA51

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第7,178,744号明細書
  

審査官引用 (3件)

• 動的スプレー処理による、高速被覆溶着のための連続インライン製造工程
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-272700   出願人：デルファイ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド
• コールドスプレー用ノズル並びにコールドスプレー被膜及び製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-252221   出願人：新日本製鐵株式会社, 国立大学法人信州大学
• セラミック層を製作する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-518801   出願人：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト