特許
J-GLOBAL ID：200903097777496467
混合ガス生成方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-036771
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235951
出願日： 1999年02月16日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：
【要約】【課題】 高濃度ジボランガスを水素ガスで希釈してエピタキシャル装置へ供給する混合ガス生成装置を提供する。【解決手段】 混合ガス生成装置10を第1のバッファタンク5と第2のバッファタンク6と第3のバッファタンク7と同圧調整手段8を備えて構成する。第1のバッファタンク5は高濃度ジボランガスを収容し、第2のバッファタンク6は水素ガスを収容する。第1のバッファタンク5と第2のバッファタンク6は同圧調整手段8によりタンク内圧力を同圧に調整する。第1のバッファタンク5および第2のバッファタンク6は内径と長さが同じ第1のパイプ11と第2のパイプ12で第3のバッファタンク7へ連通接続する。第1のパイプ11と第2のパイプ12の本数比はジボランガスと水素ガスの設定混合比の割合にする。
請求項（抜粋）：
第1のガスが収容されている第1の容器と、第2のガスが収容されている第2の容器と、前記第1のガスと第2のガスの混合ガスが収容されるべき第3の容器とを用意し、前記第1の容器は1本以上の第1のパイプを用いて第3の容器に連通接続し、前記第2の容器は1本以上の第2のパイプを用いて第3の容器に連通接続し、前記第1および第2の容器と前記第3の容器との間に第3の容器側を低圧とする予め定められる所定の差圧を与えたときに第1の全てのパイプを流れる第1のガスの流量と第2の全てのパイプを流れる第2のガスの流量の比率が第1のガスと第2のガスの設定混合比となるように第1のパイプと第2のパイプの内径、長さおよび本数を設定しておき、第1および第2の容器と前記第3の容器との間に第3の容器側が低圧となる前記所定の差圧を与えた状態で、第1の容器の第1のガスと第2の容器の第2のガスを前記第1、第2のパイプを通して第3の容器に導入し、第3容器内に第1のガスと第2のガスとの設定混合比の混合ガスを生成する混合ガス生成方法。
Fターム (8件)：
5F045AB02
, 5F045AC19
, 5F045EE04
, 5F045EE05
, 5F045EE12
, 5F045EE13
, 5F045EE15
, 5F045EE17
