特許
J-GLOBAL ID：200903097785800787
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-200374
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037858
出願日： 1993年07月19日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 上下のスプレーノズルから供給される処理流体どうしの干渉に起因する飛沫の発生を抑制するとともに、下側スプレーノズルからの処理流体の処理室天井面やスプレー配管への直接的な接触を防止する。【構成】 処理室1内に、基板Wを水平方向に搬送する基板搬送装置2を設けるとともに、その基板搬送装置2で搬送される基板Wの上面に処理流体を供給する上側スプレーノズル3a...と下面に処理流体を供給する下側スプレーノズル3b...とを設け、かつ、下側スプレーノズル3b...の処理流体の吹き出し方向を、基板Wの下面に対して傾斜させて構成する。
請求項（抜粋）：
処理室内に、基板を水平方向に搬送する基板搬送装置を設けるとともに、前記基板搬送装置で搬送される基板の上面に処理流体を供給する上側スプレーノズルと下面に処理流体を供給する下側スプレーノズルとを設けた基板処理装置において、前記下側スプレーノズルの処理流体の吹き出し方向を、前記基板の下面に対して傾斜させてあることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/306
, B08B 3/02
, G02F 1/13 101
, H01L 21/304 341
