特許
J-GLOBAL ID：200903097787647412
防汚性プラスチックフィルムの製法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
香川 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-174256
公開番号（公開出願番号）：特開平10-001553
出願日： 1996年06月13日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：
【要約】【課題】高周波プラズマCVD方式により、特定の機能を持つ有機化合物の皮膜、特に撥水性・防汚性などの機能性皮膜を、プラスチックフィルム表面に連続的に付与することで高い生産性を有し、かつ高品位である、プラスチックフィルム、好ましくは、反射防止プラスチックフィルムの防汚層の形成方法を提供すること。【解決手段】高周波プラズマCVD(ケミカル・ヴェーパー・デポジット)連続加工装置を用い、かつ高周波出力を10〜50wとして、連続して走行するプラスチックフィルムに、パーフルオロ基を含有する反応性有機化合物を反応蒸着して有機化合物皮膜を連続的に形成することを特徴とする防汚性プラスチックフィルムの製法。
請求項（抜粋）：
下記の装置部品を構成要素としてなる、高周波プラズマCVD(ケミカル・ヴェーパー・デポジット)連続加工装置を用い、かつ高周波出力を10〜50wとして、連続して走行するプラスチックフィルムに、パーフルオロ基を含有する反応性有機化合物を反応蒸着して有機化合物皮膜を連続的に形成することを特徴とする防汚性プラスチックフィルムの製法。(a) 真空系(真空ポンプ及び真空容器)(b) フィルム搬送系(フィルムの繰り出しロール系、及び連続的に繰り出しロール系から繰り出し走行するフィルム面にCVD蒸着が可能なフィルム走行領域、及びフィルム走行領域にてCVD蒸着されたフィルムの巻き取りロール系)(c) プラズマ蒸着系(高周波プラズマ発生装置及びフィルム走行領域(b) に隣接するプラズマ発生領域)(d) 材料供給系(プラズマ重合によって有機化合物皮膜を形成しうるパーフルオロ基を含有する反応性有機化合物を充填する加熱可能な容器、及び容器からこの反応性有機化合物を気化して、真空系(a) 内部のプラズマ発生領域(c) に導入する配管装置)
IPC (5件)：
C08J 7/04
, B29C 67/00
, C08J 7/00 306
, G02B 1/10
, C23C 16/50
C08J 7/04 S
, B29C 67/00
, C08J 7/00 306
, C23C 16/50
, G02B 1/10 Z
