特許

J-GLOBAL ID：200903097788232470

露光装置とパターン形成方法

発明者： 川野 健二 ,  岩松 孝行 ,  伊藤 信一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-007148
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203799
出願日： 1995年01月20日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】【目的】 転写すべきパターンを外部からの信号により形成することができ、かつ外部からの信号を伝えるための配線や電極に起因する光学像の歪みをなくすことができる露光装置を提供すること。【構成】 外部からの信号に応じて所望のパターンを得る露光用マスクを有する露光装置において、パターンデータを発生するパターンデータ発生部203と、パターンデータ発生部203のデータに応じて強度が異なる第1の光を発光する領域がセル状に複数個配置されたパターン発生部200と、パターン発生部200からの第1の光の照射状態に応じて第2の光に対する透過率が変化する物質が配置されたマスク部205と、このマスク部205に第2の光を照射する光源206と、第2の光の照射によりマスク部205で得られるパターンを被加工基板209上に転写するための投影レンズ207とを備えたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

露光すべきパターンに対応するパターンデータを発生するパターンデータ発生部と、このパターンデータ発生部のデータに応じて波長又は強度が異なる第1の光を発光する領域がセル状に複数個配置されたパターン発生部と、このパターン発生部からの第1の光の照射状態に応じて第2の光に対する光学特性が変化する物質が配置されたマスク部と、このマスク部に第2の光を照射する光源と、第2の光の照射によりマスク部で得られるパターンを被加工基板上に転写するための転写光学系とを具備し、前記マスク部に第1の光を照射することで第2の光に対して変化する光学特性が、第2の光に対する透過率若しくは透過光の位相の少なくとも1つ、又は第2の光に対する照射面の反射率若しくは反射光の位相の少なくとも1つであることを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/00 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 520 A ,  H01L 21/30 528