特許

J-GLOBAL ID：200903097793844068

ペリクルおよびレチクル異物検査装置

発明者： 中村 元
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-109253
公開番号（公開出願番号）：特開2000-305249
出願日： 1999年04月16日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 ペリクルおよびレチクル、マスク異物付着検査装置内部のスペース効率を上げ、検査行為を簡単化し、ごみ等の原因による不良製品、不良素子の製造を未然に防ぐ。【解決手段】 スキャン方式の半導体製造装置のペリクルおよびレチクル異物検査装置において、露光に使用する、露光光源、ペリクルおよびレチクル、マスク異物付着検査と共用する。

請求項（抜粋）：

スキャン方式の半導体製造装置のペリクルおよびレチクル異物検査装置において、ペリクルおよびレチクル検査の光源として露光光源を使用することを特徴とするペリクルおよびレチクル異物検査装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/23 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 S ,  G03F 1/08 J ,  G03F 7/23 H ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 518

Fターム (13件)：

2H095BA01 ,  2H095BD05 ,  2H095BD08 ,  2H095BD13 ,  2H095BD15 ,  2H095BD21 ,  5F046AA05 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046DB14 ,  5F046DC04 ,  5F046DD01