特許

J-GLOBAL ID：200903097821236265

ガス貯蔵装置

発明者： 井上 衞 ,  杉浦 勉 ,  金子 克美
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-085032
公開番号（公開出願番号）：特開2003-278997
出願日： 2002年03月26日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】 従来のガス貯蔵装置と比較して格段に優れた特性を有するガス貯蔵装置を提供する。【解決手段】 貯蔵されるガスに関する吸脱着等温線がヒステリシスループを示す化合物を収納してなるガス貯蔵装置によって上記課題は解決される。

請求項（抜粋）：

貯蔵されるガスに関する吸脱着等温線がヒステリシスループを示す化合物を耐圧容器内部に収納してなるガス貯蔵装置。

IPC (3件)：

F17C 11/00 ,  C10L 3/06 ,  C07F 1/08

FI (3件)：

F17C 11/00 A ,  C07F 1/08 C ,  C10L 3/00 A

Fターム (5件)：

3E072EA01 ,  4H048AA01 ,  4H048AB83 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 水素吸蔵合金式水素供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-245434   出願人：本田技研工業株式会社
• ガス貯蔵性金属錯体とその製造方法及びガス貯蔵装置並びにガス貯蔵装置を装備した自動車
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-040817   出願人：大阪瓦斯株式会社
• 酸素の選択的吸着のための分子間結合された遷移元素錯体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-374187   出願人：プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Hydrogen bond-regulated microporous nature of copper complex-assembled microcrystals