特許

J-GLOBAL ID：200903097827388903

処理液塗布装置

発明者： 松山 雄二
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-309810
公開番号（公開出願番号）：特開平5-121308
出願日： 1991年10月29日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：

【要約】【目的】 排気バランスを良好に維持しつつ排気圧の低下を防止し、被処理体へのミストの付着を低減する。【構成】 被処理体10に処理液を塗布する塗布部24からのドレインをドレインライン18を介してドレインタンク20へ流下させると共に、塗布部24の雰囲気を排気ライン14を介して排気するようになされた処理液塗布装置において、上記排気ライン14の途中にミストトラップ28を設け、上記ドレインタンク20と上記ミストトラップ28との間に補助排気ライン30を設ける。これにより、塗布部24の雰囲気を排気ライン14のみならずドレインライン18、ドレインタンク20及び補助排気ライン30を介して排気すると共にドレインタンク20にて十分に気液分離を行う。

請求項（抜粋）：

被処理体に処理液を塗布する塗布部からのドレインをドレインラインを介してドレインタンクへ案内すると共に、前記塗布部内の雰囲気を排気ラインを介して排気するようになされた処理液塗布装置において、前記排気ラインにミストトラップを設け、該ミストトラップと前記ドレインタンクとの間に補助排気ラインを設け、前記ドレインタンク内の雰囲気を排気するように構成したことを特徴とする処理液塗布装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502

FI (2件)：

H01L 21/30 361 C ,  H01L 21/30 361 L

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-148828
  
• 特開平2-227162
  
• 特開昭61-207019
  
• 特開昭57-166033