特許
J-GLOBAL ID：200903097832943125
高濃縮過酸化水素を製造するための晶出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-546033
公開番号（公開出願番号）：特表2004-514638
出願日： 2001年10月24日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
本発明は、懸濁晶出およびH2O2結晶の後処理によって80質量%を上廻り、特に98質量%を上廻る含量を有する、極めて高濃縮された過酸化水素の連続的製造方法に関する。本発明によれば、充填結晶床を備えた水圧洗浄カラムまたは機械洗浄カラム中での向流洗浄の形をとる。さらに本発明は、99.9〜100質量%の濃度を有し、かつ、それぞれ4mg/lを下廻るTOC、硝酸塩、リン酸塩、ニッケルおよび錫の含量を有する過酸化水素を提供する。
請求項（抜粋）：
濃度CEの過酸化水素水溶液の懸濁晶出および懸濁液中に含まれる過酸化水素結晶の後処理を含む、濃度CEが少なくとも80質量%であり、かつCPがCEを上廻る、濃度CEの過酸化水素水溶液から濃度CPの極めて高濃縮された過酸化水素を連続的に製造するための方法において、後処理が、充填結晶床を備えた水圧洗浄カラムまたは機械洗浄カラム中での向流洗浄の形をとり、かつ濃度CPの融解過酸化水素を洗浄媒体として使用する、濃度CEの過酸化水素水溶液から濃度CPの極めて高濃縮された過酸化水素を連続的に製造するための方法。
IPC (2件)：
FI (7件)：
C01B15/013
, B01D9/02 601A
, B01D9/02 602B
, B01D9/02 604
, B01D9/02 608Z
, B01D9/02 625A
, B01D9/02 625E
