特許
J-GLOBAL ID：200903097840750913
位置検出方法と該方法を用いた投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-130437
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055788
出願日： 1984年05月11日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：
【要約】【目的】 投影露光装置の各種精度を簡便に検査するために利用される位置検出方法を提供する。【構成】 ウェハを載置する投影露光装置の移動ステージ上に感光体を固定し、その感光体の感光層にマスクのパターンを露光することで、感光層内にマスクパターンの潜像を形成し、ウェハ上の段差マーク検出用に露光装置内に設けられているアライメント系(段差マークの光電検出系)を、潜像の光学的な検出手段として兼用することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたマスクを露光光で照明する照明系と、該マスクのパターンの光像を所定の結像面内に投影する投影光学系と、該投影されたパターン光像が転写される感応層で被覆された基板を保持する移動ステージと、前記基板上に段差を伴って形成されたマークを前記投影光学系を介して光電検出するためのアライメント系とを備えた投影露光装置における位置検出方法であって、a.前記感応層で被覆された基板を前記移動ステージに取付け、前記マスクに形成された位置検出用のマークの露光光による像を前記投影光学系を通して前記基板の感応層の所定位置に転写することで該感応層の所定範囲内に前記位置検出用マークの潜像を形成する段階と、b.該潜像の形成された基板を前記移動ステージ上に保持したまま、前記潜像が前記アライメント系の検出領域内に移動するように前記移動ステージを制御する段階と、c.前記アライメント系によって前記位置検出用マークの潜像が形成された前記感応層内の光学的な特性変化を検出することで、前記位置検出用マークの潜像に応じた光電信号を得る段階と、d.該光電信号の波形変化を解析することで前記検定用マークの潜像の位置を決定する段階とを含むことを特徴とする位置検出方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
