特許
J-GLOBAL ID：200903097853283915
回転式基板現像処理方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-348030
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183208
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 現像処理に至るまでの前段階において基板表面の外周端縁や外周端面に不要なポジレジスト皮膜が残存しても、その不要なポジレジスト皮膜を現像処理工程で除去し、後工程でのパーティクル発生を防止する。【構成】 表面にポジレジスト皮膜が形成された基板1を基板保持手段2で回転可能に保持し、その基板保持手段2によって保持された基板1の裏面にノズル4から現像液を吐出し、基板1の外周端面などに残存した不要なポジレジスト皮膜を溶解除去する。
請求項（抜粋）：
露光処理後の回転状態のポジレジスト皮膜が形成された基板に対し、その基板の表面に現像液を供給する現像処理の前後のいずれかあるいは両方、または/および、現像処理中に、前記基板の端縁の裏面側に現像液を供給し、前記基板の表面の端縁に残存付着した不要なポジレジスト皮膜を溶解除去することを特徴とする回転式基板現像処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/30 502
