ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 栗宇百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-239582
公開番号（公開出願番号）：特開2004-077908
出願日： 2002年08月20日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ感度及びコントラストに優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。【解決手段】特定構造の繰り返し単位を含有し、質量平均分子量(ポリスチレン換算)が3,000〜50,000で、かつ分散度が1.7以下であり、更に用いる繰り返し単位によって分子量1,000以下の割合が10質量%以下で、かつ残存するモノマーの割合が5質量%以下である、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A1)下記一般式(I)〜(IV)で示される群から選ばれる少なくとも1つの繰り返し単位を含有する、重量平均分子量(ポリスチレン換算)が3,000〜50,000の範囲であり、かつ分散度が1.7以下である、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F7/039 , C08F12/22 , C08F16/00 , C08F20/28 , C08F32/00 , H01L21/027

FI (6件)：

G03F7/039 601 , C08F12/22 , C08F16/00 , C08F20/28 , C08F32/00 , H01L21/30 502R

Fターム (57件)：

2H025AA01 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AB04T , 4J100AB07T , 4J100AB10T , 4J100AC07T , 4J100AC53T , 4J100AD07T , 4J100AL26R , 4J100AL26S , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100BA02P , 4J100BA02R , 4J100BA02S , 4J100BA02T , 4J100BA03P , 4J100BA03T , 4J100BA04P , 4J100BA04T , 4J100BA05P , 4J100BA06P , 4J100BA06R , 4J100BA06S , 4J100BA15Q , 4J100BA40T , 4J100BB01T , 4J100BB03T , 4J100BB07T , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BB18R , 4J100BB18S , 4J100BB18T , 4J100BC04R , 4J100BC04S , 4J100BC04T , 4J100BC12Q , 4J100BC12R , 4J100BC12S , 4J100BD12 , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA05 , 4J100DA39 , 4J100DA61 , 4J100JA38

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