特許
J-GLOBAL ID：200903097872339883
投影露光装置
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-270681
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109602
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】本発明では、レティクル2とウェハステージ3の座標系の相対回転誤差量を精度良く測定し、これを一定時間ごとにレティクル2もしくはウェハステージ3にフィードバックすることにより、安定した高精度な重ね合せを実現できる投影露光装置を提供することにある。【構成】上記目的を達成するため、レティクル2上に設けた2つ以上のパターンを露光光によりウェハステージ3上に結像させ、その結像位置をウェハ上に設けた光電センサユニット5とステージ位置測定系13により、レティクル2とウェハステージ3の座標系との相対回転量を求め、かつ、求められた相対回転量を一定時間ごとにレティクル2もしくはウェハステージ3にフィードバックするように構成したもの。
請求項（抜粋）：
ウェハステージもしくはレティクルステージのXYθの位置を計測する測定系とこの測定による計測結果に基づきXYθ方向に移動可能なウェハステージもしくはレティクルステージを具備した投影露光装置において、レティクル上に設けた2つ以上のパターンを露光光によりウェハステージ上に結像させ、その結像位置をウェハステージ上に設けた光電センサと前記ステージ位置測定系により、位置決めされたレティクルとウェハステージの座標系との相対回転量を求め、かつ求められた前記レティクルとウェハステージの座標系の相対回転量をレティクルステージもしくはウェハステージにフィードバックし適正なるθ方向の相対位置決めをなし得ることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
