特許
J-GLOBAL ID：200903097880000348
高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野崎 銕也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-084629
公開番号（公開出願番号）：特開平8-253434
出願日： 1995年03月17日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【構成】 2-シクロヘキセン-1-オールの液相脱水反応において、酸素10員環細孔構造を持つ結晶性メタロシリケートを触媒として用いることを特徴とする1,3-シクロヘキサジエンの製造方法。好ましくは結晶性メタロシリケートがZSM-5、ZSM-5類似またはZSM-11ゼオライトである。【効果】 液相反応条件下、高収率で1,3-シクロヘキサジエンが得られ、且つ分離が困難な副生物を顕著に抑制することができ、極めて高純度の1,3-シクロヘキサジエンを得ることができる。
請求項（抜粋）：
2-シクロヘキセン-1-オールの液相脱水反応により1,3-シクロヘキサジエンを製造するに際し、触媒として酸素10員環細孔構造を持ち、無水物の酸化物のモル比で表された組成が下記(1)式で示される結晶性メタロシリケートを用いることを特徴とする高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造法。【化1】xM2/n O・ySiO2 ・R2/w O (1)(式中、Mはn価の少なくとも1種のカチオンを表わし、Rは短周期型周期律表のIB族、IIB族、III A族、III B族、IVA族、IVB族、VA族、VB族、VIB族、VII B族、VIII族の中から選ばれた少なくとも1種のw価の金属を表わし、x=0.3±0.1、5≦y≦500である。)
IPC (5件)：
C07C 13/23
, B01J 29/06
, B01J 29/40
, C07C 1/24
, C07B 61/00 300
C07C 13/23
, B01J 29/06 X
, B01J 29/40 X
, C07C 1/24
, C07B 61/00 300
