特許

J-GLOBAL ID：200903097898069906

輻射線感受性組成物及びその製造方法

発明者： ダニエル・ワイ・ペイ ,  ステイーブン・エス・ロドリゴウズ ,  ケビン・ジエイ・チーザム ,  ゲリイ・エス・カラブレス ,  ロジヤー・エフ・シンタ
出願人/特許権者： シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-047462
公開番号（公開出願番号）：特開平6-041493
出願日： 1993年02月12日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：

【要約】【構成】 輻射線感受性組成物、該組成物の使用方法、及び該組成物でコーティングされた基板を提供する。光画像化可能な組成物は、光塩基発生化合物と樹脂結合剤と塩基の存在下に架橋し得る化合物とを含む。好ましい態様によれば、本発明は、光塩基発生化合物と、好ましくはフェノールポリマーから成る樹脂結合剤と、塩基を開始剤として架橋し得る1つまたはそれ以上の活性基を有する架橋剤と、硬化剤とから成るネガ型の水性現像型の光画像化可能な組成物を提供する。【効果】 高解像度のレリーフ像を形成でき、高温でも基板に対する付着力があり、耐熱性、化学的処理薬品に対する耐性を有し、露光後のベーキングが不要で、可撓性のある架橋コーティング層を与える。

請求項（抜粋）：

光塩基発生化合物と樹脂結合剤と塩基の存在下に架橋し得る化合物とを含む輻射線感受性組成物。

IPC (7件)：

C09D163/04 JFL ,  C08G 59/40 NKG ,  C08G 59/40 NLE ,  C08L 63/00 NJT ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 ,  H05K 3/28