特許
J-GLOBAL ID:200903097902464912
N-(2-ヒドロキシエチル)-2-アリールスルホニルエチルアミンおよびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保山 隆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-051016
公開番号(公開出願番号):特開2001-233851
出願日: 2000年02月28日
公開日(公表日): 2001年08月28日
要約:
【要約】【課題】 新規な一般式(1)(式中、R1およびR2はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ(低級アルキル)アミノ基を表わす。)で示されるN-(2-ヒドロキシエチル)-2-アリールスルホニルエチルアミンを提供すること。【解決手段】一般式(2)(式中、R1およびR2はそれぞれ前記と同じ意味を表わす。)で示されるアリールビニルスルホンとモノエタノールアミンを反応させることを特徴とするN-(2-ヒドロキシエチル)-2-アリールスルホニルエチルアミンの製造方法。
請求項(抜粋):
一般式(1)(式中、R1およびR2はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ(低級アルキル)アミノ基を表わす。)で示されるN-(2-ヒドロキシエチル)-2-アリールスルホニルエチルアミン。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (9件):
4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB84
, 4H006AC52
, 4H006TA02
, 4H006TB04
, 4H006TB42
, 4H006TN30
, 4H006TN50
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