特許
J-GLOBAL ID：200903097919988397
非線形光学素子の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
雨宮 正季
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-254352
公開番号（公開出願番号）：特開平5-066435
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】チャネル導波路の作製プロセスにおいて、2次の非線形特性を劣化させることなしにチャネル導波路の加工を行なう方法を提供する。【構成】非線形光学特性を示す高分子材料をコアとし、コアより僅かに屈折率の小さな高分子をクラッドとするチャネル型光導波路を作製する工程において、任意の基板1上に紫外線硬化樹脂2を塗布し、次に非線形光学特性を示す高分子3を塗布し、次にスピンコート可能な水溶性高分子4を塗布し、次に紫外線硬化樹脂5を塗布しまたは金属膜を設け、さらに、レジスト6を塗布し、紫外線を用いて任意のパタンに露光現像し、パタン化されたレジストをマスクとして、反応性イオンエッチングにより非線形高分子の層までエッチングし、その後、前記水溶性高分子4より上の層を水でリフトオフし、その後、紫外線硬化樹脂を塗布して作製することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
非線形光学特性を示す高分子材料をコアとし、コアより僅かに屈折率の小さな高分子をクラッドとするチャネル型光導波路を作製する工程において、任意の基板上に紫外線硬化樹脂を塗布し、次に非線形光学特性を示す高分子を塗布し、次にスピンコート可能な水溶性高分子を塗布し、次に紫外線硬化樹脂を塗布し、さらに、レジストを塗布し、紫外線を用いて任意のパタンに露光現像し、パタン化されたレジストをマスクとして、反応性イオンエッチングにより非線形高分子の層までエッチングし、その後、前記水溶性高分子より上の層を水でリフトオフし、その後、紫外線硬化樹脂を塗布して作製することを特徴とする非線形光学素子の作製方法。
IPC (2件)：
G02F 1/35 504
, G02B 6/12
