特許
J-GLOBAL ID：200903097920569454
静電吸着電極
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-060554
公開番号（公開出願番号）：特開平9-252047
出願日： 1996年03月18日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：
【要約】【課題】静電吸着電極において、静電吸着用電極とバイアス電圧印加用電極を各々独立に形成し、静電吸着とバイアス電圧印加をそれぞれ最適化し、パルスバイアス電圧を効果的に印加する。【解決手段】静電吸着用電極とバイアス電圧印加用電極を電気的に絶縁して構成し、それぞれ被処理物の対向する部分の絶縁膜を、それぞれ最適となる物性値と厚さとした。【効果】静電吸着とバイアス電圧印加が独立に実施できるので、高精度プラズマ処理が可能になると言う効果がある。
請求項（抜粋）：
被処理物にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置の被処理物載置電極において、前記電極を吸着電極とし、電極の被処理物載置面である静電吸着用絶縁膜の膜厚を被処理物に対向する部分で変え、各々の膜厚形成部を電気的に絶縁したことを特徴とする静電吸着電極。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, B23Q 3/15
, H01L 21/3065
, H02N 13/00
H01L 21/68 R
, B23Q 3/15 D
, H02N 13/00 D
, H01L 21/302 B
