特許
J-GLOBAL ID:200903097920979601

電子ビーム露光方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-121523
公開番号(公開出願番号):特開2000-315637
出願日: 1999年04月28日
公開日(公表日): 2000年11月14日
要約:
【要約】【課題】 露光時間を短縮して生産性を向上できる電子ビーム露光方法及び装置を提供する。【解決手段】 被露光対象である試料を連続回転させながら収束電子ビームを出射し、試料に対して電子ビーム露光を行う電子ビーム露光方法において、回転方向又は回転方向と逆方向に回転速度に同調させて電子ビームを偏向させ、回転方向のパターンの露光を行う。このように電子ビームのオンオフではなく、電子ビームの偏向制御でパターンの露光を行うことにより、全体の露光作業時間を短縮して生産性を向上する。
請求項(抜粋):
被露光対象である試料を連続回転させながら収束電子ビームを出射し、試料に対して電子ビーム露光を行う電子ビーム露光方法において、回転方向又は回転方向と逆方向に回転速度に同調させて電子ビームを偏向させ、回転方向のパターンの露光を行うことを特徴とする電子ビーム露光方法。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305
FI (3件):
H01L 21/30 541 J ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B
Fターム (12件):
2H097AA03 ,  2H097AB06 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C034BB03 ,  5C034BB04 ,  5C034BB10 ,  5F056CB12 ,  5F056CB23 ,  5F056CB25 ,  5F056EA06 ,  5F056EA14

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