特許
J-GLOBAL ID：200903097928658502

密着性の優れた表面被覆の製造方法

発明者：
バウアー,ミヒャエル

バウアー,ミヒャエル について

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ケーラー,マンフレート

ケーラー,マンフレート について

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クンツ,マルティン

クンツ,マルティン について

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ミゼフ,リューボミール

ミゼフ,リューボミール について


出願人/特許権者：
チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド

チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド について


代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-578122
公開番号（公開出願番号）：特表2002-528568
出願日： 1999年10月20日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
要約：
【要約】本発明は、無機性または有機性の基材上に密着性の優れた被覆を製造する方法であって、以下の工程を特徴とする方法に関する:a)無機または有機基材に、低温プラズマ放電、コロナ放電、高エネルギーUV放射または電子放射を作用させ、ついでその放射または放電を止め、さらなる工程で、b)少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する1種類または数種類の光開始剤を、減圧下または常圧下で、無機または有機基材上に付着させて、そこに生成しているラジカル部位と反応させ、そしてc1)このように光開始剤によって前被覆された基材を、少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーを含有する組成物で被覆し、そしてこの被覆をUV/VIS放射によって硬化させるか、またはc2)このように光開始剤によって前被覆された基材上に、金属、半金属または金属酸化物を、UV光の存在下にガス相から析出させる。本発明はさらに、少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光開始剤の、該被覆製造のための使用、および該密着性被覆自体に関する。
請求項（抜粋）：
無機または有機基材上に密着性の優れた被覆を製造する方法であって、第1工程において、 a)無機または有機基材上に、低温プラズマ放電、コロナ放電、高エネルギーUV放射または電子放射を作用させ、引き続いてその放射または放電を止め;さらなる工程において、 b)少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する1種または複数種の光開始剤を、真空下または常圧下で、無機または有機基材上に付着させて、そこに生成しているラジカル部位と反応させ;そして c1)このように光開始剤で前被覆した基材を、少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーを含有する組成物で被覆し、そしてこの被覆をUV/VIS放射によって硬化させるか;または c2)このように光開始剤で前被覆した基材上に、金属、半金属酸化物または金属酸化物を、UV光の存在下でガス相から析出させることを特徴とする方法。
IPC (14件)：
C08J 7/18 CER ,  C08J 7/18 CEZ ,  B05D 3/04 ,  B05D 3/06 ,  B05D 3/10 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/24 301 ,  B32B 9/00 ,  B32B 15/08 ,  B32B 27/18 ,  B32B 27/30 ,  D06M 11/83 ,  D06M 14/26 ,  C08L101:00
FI (14件)：
C08J 7/18 CER ,  C08J 7/18 CEZ ,  B05D 3/04 C ,  B05D 3/06 ,  B05D 3/10 H ,  B05D 5/00 Z ,  B05D 7/24 301 T ,  B32B 9/00 A ,  B32B 15/08 A ,  B32B 27/18 Z ,  B32B 27/30 A ,  D06M 14/26 ,  C08L101:00 ,  D06M 11/00 C
Fターム (102件)：
4D075BB46X ,  4D075BB46Y ,  4D075BB47X ,  4D075BB49X ,  4D075CA47 ,  4D075DA01 ,  4D075DA03 ,  4D075DA11 ,  4D075DA23 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB18 ,  4D075DB20 ,  4D075DB36 ,  4D075DB37 ,  4D075DB43 ,  4D075DB48 ,  4D075DB50 ,  4D075DB52 ,  4D075DB53 ,  4D075EA07 ,  4D075EA21 ,  4D075EB12 ,  4D075EB13 ,  4D075EB15 ,  4D075EB19 ,  4D075EB39 ,  4D075EB47 ,  4D075EB52 ,  4D075EB56 ,  4D075EC37 ,  4F073AA01 ,  4F073BA02 ,  4F073BA03 ,  4F073BA06 ,  4F073BA07 ,  4F073BA08 ,  4F073BA09 ,  4F073BA10 ,  4F073BA11 ,  4F073BA12 ,  4F073BA13 ,  4F073BA14 ,  4F073BA15 ,  4F073BA17 ,  4F073BA18 ,  4F073BA19 ,  4F073BA20 ,  4F073BA22 ,  4F073BA23 ,  4F073BA26 ,  4F073BA29 ,  4F073BA31 ,  4F073BA32 ,  4F073BA34 ,  4F073BA43 ,  4F073BA48 ,  4F073BB01 ,  4F073CA01 ,  4F073CA02 ,  4F073CA21 ,  4F073FA03 ,  4F073FA05 ,  4F100AA01A ,  4F100AA17B ,  4F100AB01A ,  4F100AB01B ,  4F100AG00A ,  4F100AK01A ,  4F100AK07 ,  4F100AK25B ,  4F100AK75 ,  4F100AL05 ,  4F100AL09A ,  4F100BA02 ,  4F100CA30B ,  4F100DE01A ,  4F100DG01A ,  4F100EH46 ,  4F100EH66B ,  4F100EJ08B ,  4F100EJ54A ,  4F100EJ54B ,  4F100EJ55A ,  4F100EJ61A ,  4F100JB16A ,  4L031AA13 ,  4L031AA18 ,  4L031AA24 ,  4L031AB01 ,  4L031AB31 ,  4L031BA04 ,  4L031BA09 ,  4L031CB13 ,  4L031DA15 ,  4L033AA04 ,  4L033AA09 ,  4L033AB01 ,  4L033AB04 ,  4L033AB09 ,  4L033AC15 ,  4L033CA11
引用特許：
審査官引用 (3件)

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