特許

J-GLOBAL ID：200903097928700541

光触媒除染の方法ならびにそのシステム

発明者： バターズ ブライン イドワード ,  パウエル アンソニー レナード
出願人/特許権者： ピュリフィツス エンヴイロンメンタル テクノロジーズ インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 関根 秀太
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-522804
公開番号（公開出願番号）：特表平8-512245
出願日： 1995年03月03日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】連続的に汚染された液体を浄化するための方法ならびにそのシステムを本明細書において開示する。本発明は実質的にすべての汚染物質がスラリーから除去され、スラリーの渦流が実現されるように形成された表面の間でスラリーの照射を行う。本発明はセラミック膜フィルターを使用することによりスラリーから除染排液の分離を行う。セラミック膜フィルターに比較的高い圧力で空気を適用して、セラミック膜に堆積した光反応触媒粒子をすべて除去するようにする。

請求項（抜粋）：

汚染された液体に光触媒を混合してスラリーを形成することと、 紫外光で照射される空間に前記スラリーを通して前記スラリーの光触媒反応を起させることによりスラリー内に除染排液が作られるように成すことと、 複数のセラミックフィルター素子を通る濾過によって前記スラリーから前記除染排液を分離することと、 前記複数のセラミックフィルター素子に衝撃波を通過させることによって光触媒のあらゆる堆積を間欠的に除去することと、 実質的に一定の光触媒の補充と合せて上記段階を反復すること を含む汚染液体の浄化のための方法。

IPC (4件)：

C02F 1/32 ,  B01D 65/02 ,  B01J 21/06 ZAB ,  B01J 35/02

FI (4件)：

C02F 1/32 ,  B01D 65/02 ,  B01J 21/06 ZAB M ,  B01J 35/02 J

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-298393
  
• ろ過膜の洗浄再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-121282   出願人：石垣機工株式会社
• 特表平5-501519
  
• 流体の光化学反応処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-348505   出願人：株式会社日本フォトサイエンス