特許

J-GLOBAL ID：200903097940336405

光デイスク成型原盤用ガラス基板の清浄方法

発明者： 米 清江 ,  野村 宏
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-293262
公開番号（公開出願番号）：特開平5-128595
出願日： 1991年11月08日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】 公害対策、清浄装置の簡易化をはかりつつ、光ディスク成型原盤用ガラス基板の清浄化を良好に行う。【構成】 光ディスク成型原盤用ガラス基板をイソプロピルアルコール(IPA)によって洗浄してのち、室温程度のIPA蒸気中から乾燥させる。

請求項（抜粋）：

光ディスク成型原盤用ガラス基板をイソプロピルアルコールによって洗浄して後、室温程度のイソプロピルアルコール蒸気中から乾燥させることを特徴とする光ディスク成型原盤用ガラス基板の清浄方法。