特許

J-GLOBAL ID：200903097944752080

物品の図形パターン作成方法

発明者： 藤本 直実
出願人/特許権者： 株式会社ゼクセル
代理人 (1件)： 大貫 和保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-267108
公開番号（公開出願番号）：特開平5-077068
出願日： 1991年09月18日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：

【要約】【目的】 精度良くマーキング加工が行え、主に化粧面の色の選択範囲を拡大しえるようにする。【構成】 物品(コントロールパネル)の表面3にビーム吸収率の低いパターン表示層4を被覆し、該パターン表示層4の上にビーム吸収率の高い被除去層5を被覆すると共に、該被除去層5の上に所定のビーム吸収率を有する表面層6を被覆して化粧面を形成し、この化粧面の所定部位にレーザ光を照射して表面層6及び被除去層5を熱溶解し、この被除去層5の熱溶解による蒸発を利用して熱溶解されない表面層6の残留物を飛散させ、該精度良く熱溶解除去された表面層6及び被除去層5を介して熱溶解されないパターン表示層4を表出させ、所定の図形パターン(例えば、OFF,DEF等の文字)を作成表示させる。

請求項（抜粋）：

物品の表面にビーム吸収率の低いパターン表示層を被覆し、該パターン表示層の上にビーム吸収率の高い被除去層を被覆すると共に、該被除去層の上に所定のビーム吸収率を有する表面層を被覆して化粧面を形成し、この化粧面の所定部位に所定の波長を有するレーザ光を照射することにより前記表面層を介して前記被除去層の所定部位を溶解除去し、該溶解除去した部位を介してパターン表示層を表出させることにより化粧面に所定の図形パターンを作成表示するようにしたことを特徴とする物品の図形パターン作成方法。

IPC (2件)：

B23K 26/00 ,  B41M 5/26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-064741
  
• 特開昭62-203692