レーザー干渉測長システム及び露光装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-070311
公開番号（公開出願番号）：特開2001-264008
出願日： 2000年03月14日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【課題】ステージの位置を高精度に計測し、同期走査のずれ量を高精度に求めることにより描画パターンの位置精度を向上させることのできるレーザー干渉測長システムを提供する【解決手段】レーザー光源1、移動鏡7、基準面としての参照鏡8、測定光と参照光とに分岐するための干渉計2、前記測定光と参照光を干渉させ電気信号に変換するための検出器を備え、参照鏡8を設置する保持台10の振動伝達特性が前記干渉計2を設置する基板14の振動成分に対して減衰するように構成される。

請求項（抜粋）：

レーザー光源と、移動体に設けられた移動鏡と、基準面としての参照鏡と、前記レーザー光源からのレーザー光を前記移動鏡に向かう測定光と前記参照鏡に向かう参照光とに分岐するための干渉計と、前記測定光と参照光を干渉させ電気信号に変換するための検出器を備え、前記測定光と前記参照光とが平行となるように配置され、前記参照鏡を設置する保持台の振動伝達特性が前記干渉計を設置する基板の振動成分に対して減衰するように構成されることを特徴とするレーザー干渉測長システム。

IPC (5件)：

G01B 9/02 , G01B 11/00 , G03F 7/22 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (6件)：

G01B 9/02 , G01B 11/00 G , G03F 7/22 H , G03F 9/00 A , H01L 21/30 503 F , H01L 21/30 516 B

Fターム (47件)：

2F064AA02 , 2F064AA03 , 2F064BB01 , 2F064DD05 , 2F064FF01 , 2F064FF06 , 2F064GG12 , 2F064GG16 , 2F064GG22 , 2F064GG23 , 2F064GG38 , 2F065AA02 , 2F065AA20 , 2F065DD14 , 2F065DD15 , 2F065FF55 , 2F065GG04 , 2F065GG23 , 2F065HH04 , 2F065HH09 , 2F065JJ05 , 2F065LL12 , 2F065LL17 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065PP12 , 2F065QQ25 , 2F065QQ51 , 2F065TT02 , 2F065UU04 , 2H097AA03 , 2H097AB09 , 2H097BA10 , 2H097CA16 , 2H097GB00 , 2H097KA03 , 2H097KA29 , 2H097LA10 , 5F046AA23 , 5F046BA05 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC16 , 5F046DA06 , 5F046DA07 , 5F046DB05 , 5F046DB11

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