特許
J-GLOBAL ID：200903097954323373
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-185305
公開番号（公開出願番号）：特開平11-153550
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：
【要約】【課題】 コンタクトホールやライン・スペースのパターンにおける欠陥を精度良く検出する。【解決手段】 試料上に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検査方法において、試料の光学像をセンサデータとして入力する工程11と、センサデータに対応する参照データを入力する工程12と、1つの開口部を含む矩形領域Rを検査領域として複数の検査領域を指定する検査領域データを入力する工程13と、検査領域データで指定される各検査領域毎に、該領域に含まれるセンサデータと該センサデータに対応する参照データを取り出し、これらを基に透過率誤差と相対位置ずれを計算する工程30と、得られた透過率誤差と相対位置ずれから透過率欠陥,寸法欠陥,及び相対位置ずれ欠陥を判定する工程40とを有する。
請求項（抜粋）：
試料上に形成されたパターンの欠陥を検出する欠陥検査方法であって、前記試料の光学像をセンサデータとして入力する工程と、前記センサデータに対応する参照データを入力する工程と、前記パターンの大きさ及び形状に応じた複数の検査領域毎に、該領域に含まれるセンサデータと該センサデータに対応する参照データを取り出し、これらを基に透過率誤差と相対位置ずれを計算する工程と、前記計算された透過率誤差と相対位置ずれから透過率欠陥,寸法欠陥,及び相対位置ずれ欠陥を判定する工程とを含むことを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G02F 1/13 101
, G03F 1/08
, H01L 21/027
G01N 21/88 E
, G02F 1/13 101
, G03F 1/08 S
, H01L 21/30 502 V
