特許

J-GLOBAL ID：200903097960417762

リビングラジカル重合開始剤系及びそれを用いる重合体の製造方法

発明者： 澤本 光男 ,  寺田 和俊 ,  井田 大嗣 ,  岡本 佳男 ,  岡野 善道 ,  西村 政通 ,  旭 哲也 ,  沖 祥嘉 ,  中島 宏 ,  山田 和信
出願人/特許権者： 財団法人 化学技術戦略推進機構
代理人 (1件)： 田治米 登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-330355
公開番号（公開出願番号）：特開平11-158206
出願日： 1997年12月01日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】 ラジカル重合性単量体をリビングラジカル重合させる際に、分子量分布の狭い重合体を、分子量を制御しつつ副反応を抑制して比較的短時間で得ることができるようにする。【解決手段】 リビングラジカル重合開始剤系を、下記の成分(A)、(B)及び(C):(A) 周期律表第10族元素から選ばれた中心金属に、配位子として一酸化炭素とリン化合物とが同時に配位してなる金属錯体;(B) ハロゲン化スルホニル基及び不飽和結合を持たない炭素原子に結合したハロゲン原子の少なくともいずれか一方を有する化合物; 及び(C) ルイス酸から構成する。

請求項（抜粋）：

下記の成分(A)、(B)及び(C):(A) 周期律表第10族元素から選ばれた中心金属に、配位子として一酸化炭素とリン化合物とが同時に配位してなる金属錯体;(B) ハロゲン化スルホニル基及び不飽和結合を持たない炭素原子に結合したハロゲン原子の少なくともいずれか一方を有する化合物; 及び(C) ルイス酸からなることを特徴とするリビングラジカル重合開始剤系。

引用特許：

出願人引用 (1件)

• スチレン系重合体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-015231   出願人：三菱化学株式会社