特許
J-GLOBAL ID：200903097975718416
堆積膜形成装置及び堆積膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-072173
公開番号（公開出願番号）：特開平9-263947
出願日： 1996年03月27日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：
【要約】【課題】 電気特性に優れ、均一で画像欠陥の少ない電子写真特性に優れた光受容部材などを安定して高歩留りで量産可能な堆積膜形成装置及び堆積膜形成方法を提供する。【解決手段】 反応容器内に支持体を配置して原料ガス及び高周波エネルギーを導入し、グロー放電により該支持体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、カソード電極(101)は二つ以上の誘電体[誘電体皮膜(102)及び誘電体カバー(103)等]により覆われていることを特徴とする堆積膜形成装置、及びこれを用いた堆積膜形成方法。
請求項（抜粋）：
真空気密可能な反応容器内に少なくともカソード電極を備え、該反応容器内に支持体を配置して原料ガス及び高周波エネルギーを導入し、導入した高周波エネルギーにより励起されるグロー放電により該支持体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、前記カソード電極は二つ以上の誘電体により覆われていることを特徴とする堆積膜形成装置。
IPC (5件)：
C23C 16/50
, C23C 16/24
, G03G 5/08 360
, H01L 21/205
, H05H 1/46
C23C 16/50
, C23C 16/24
, G03G 5/08 360
, H01L 21/205
, H05H 1/46 A
