特許

J-GLOBAL ID：200903098004493252

露光用マスク、及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 米田 郁男
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-374319
公開番号（公開出願番号）：特開2001-188335
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】 ハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、マスク材料に照射される高エネルギー露光光によって引き起こされるマスク材料劣化の影響を排除し、簡便な手段により露光用マスクの耐用寿命を延ばすことを目的としている。【解決手段】 この発明の露光マスクは、石英などの透明基板300上に形成された露光パターンの暗部領域301と明部領域302を有するハーフトーン膜303からなっている。暗部領域の透過光と明部領域の透過光の位相差を約180度とし、また暗部領域と明部領域の透過光強度の比が、0.03〜0.15:1となるように両領域の厚みを設定する。

請求項（抜粋）：

透明基板上に、紫外光領域の露光波長に対して半透明な少なくとも1層以上の膜からなる第1の領域と、前記紫外光領域の露光波長に対して透明または半透明な少なくとも1層以上の膜からなり、該露光波長に対する前記第1の領域との位相差が概ね180度となる第2の領域を有し、該露光波長での前記第1の領域と前記第2の領域との透過光強度の比が、0.03〜0.15:1であることを特徴とする露光用マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (4件)：

2H095BA07 ,  2H095BB03 ,  2H095BB35 ,  2H095BC24