露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-106217
公開番号（公開出願番号）：特開平9-275066
出願日： 1996年04月02日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：

【要約】【課題】本発明は、露光装置について、露光工程を簡易にし得るようにする。【解決手段】本発明は、第1の露光後には、読取り手段によつてウエハから得たウエハ識別情報と、回路パターンの位置ずれ量とを対応させて情報記憶手段に記憶し、第2の露光時には、演算手段によつて得たウエハに応じた補正係数に基づいてウエハを位置合わせして露光するようにしたことにより、ウエハの変形が大きい場合でも露光工程中の作業者によるマニユアルアシストを除くことができ、かくして露光工程を簡易にし得る露光装置を実現することができる。

請求項（抜粋）：

ウエハの一面に複数形成された回路パターン上にそれぞれ所定のパターン像を重ね合わせるように露光する露光装置において、ウエハの所定領域に形成されたウエハ識別情報を読み取る読取り手段と、前記読取り手段によつて得たウエハ識別情報と、前記回路パターンの位置ずれ量とを対応させて記憶する情報記憶手段と、露光時、前記読取り手段によつて前記ウエハから得た前記ウエハ識別情報を基に対応する前記位置ずれ量を前記情報記憶手段から読み出し、前記位置ずれ量に基づいて位置ずれを補正する補正係数を算出する演算手段とを具え、第1の露光後には、前記読取り手段によつて前記ウエハから得た前記ウエハ識別情報と、前記回路パターンの前記位置ずれ量とを対応させて前記情報記憶手段に記憶し、第2の露光時には、前記演算手段によつて得た前記ウエハに応じた前記補正係数に基づいて前記ウエハを位置合わせして露光することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 525 X , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 525 D

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