特許
J-GLOBAL ID：200903098023762183
基板洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-257209
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084858
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 基板の表面に対するブラシの押し付け量の調節を簡単かつ常に正確に行なうことができ、ホルダーに複数のブラシを保持した装置ではブラシに製造誤差や取付け誤差があっても、また、ブラシの取付け姿勢の如何に拘らず、ブラシ全体が基板表面に接触して基板表面を正常に洗浄することができ、ブラシが経時変化を起こしても、基板の洗浄効果を一定に維持することができるようにする。【構成】 基板10の表面に押し付けられて接触した状態で回転するブラシ部14を、変形自在の蛇腹18を介在させて保持部材16に保持し、減圧弁22及び圧力ゲージ26が介設されたエアー供給路20を通して加圧空気を蛇腹内へ供給し蛇腹内部に封入する。
請求項（抜粋）：
基板の表面にブラシ部を押し付けて接触させた状態でブラシ部を基板表面に対し直交する軸心回りに回転させ又は基板表面に沿って揺動もしくは往復微動させることにより基板表面を洗浄する基板洗浄装置において、前記ブラシ部を弾性手段を介在させて保持部材に保持するとともに、基板の表面に対するブラシ部の押し付け圧を調節する押し付け圧調節手段及びその押し付け圧を測定する押し付け圧測定手段を設けたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 1/04
