特許
J-GLOBAL ID：200903098028070751
蛍光膜形成方法とそれに用いる蛍光膜形成用転写材
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-083590
公開番号（公開出願番号）：特開平6-295671
出願日： 1993年04月09日
公開日（公表日）： 1994年10月21日
要約：
【要約】【目的】 ガラス基板上に、特に陰極線管のフェースプレート上に蛍光膜を容易に効率よく形成することのできる蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写材を提供する【構成】 熱転写性蛍光体層が導電性ベースフィルム上に形成された転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス基板に対向させ、前記転写材にレーザーを照射し、その熱により前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上にパターン状に転写し、焼成することにより蛍光膜を前記ガラス基板上に形成することを特徴とする蛍光膜形成方法及び該転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィルム、または熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の中間層のうち少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする蛍光膜形成用転写材
請求項（抜粋）：
少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍光体層がベースフィルム上に形成された転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス基板に対向させ、前記転写材にレーザーを照射し、その熱により前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上にパターン状に転写し、焼成することにより蛍光膜を前記ガラス基板上に形成することを特徴とする蛍光膜形成方法
引用特許：
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