特許

J-GLOBAL ID：200903098046021482

無機質膜の形成方法

発明者： 菅沼 武
出願人/特許権者： ヤマハリビングテック株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-012739
公開番号（公開出願番号）：特開2001-200202
出願日： 2000年01月21日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】【課題】比較的低温度で加熱するだけで、各種基材に対する密着性が良好であって、しかも耐温水性、耐アルカリ性等に優れた無機質膜を形成できる方法を提供する。【解決手段】シリコン変性アクリル樹脂、ケイ素含有化合物、並びにジルコニウム化合物、チタニウム化合物及びアルミニウム化合物から選ばれた少なくとも一種の金属化合物、を有機溶媒に溶解又は分散させてなる組成物を用いてプライマー皮膜を形成した後、ジルコニウム化合物及びチタニウム化合物から選ばれた少なくとも一種の化合物を溶媒に溶解した組成物を用いて中間層を形成するか、或いは中間層を生成することなく、ケイ素含有アルコキシド化合物の加水分解生成物中に、Zr錯体、Al錯体及びTi錯体から選ばれた少なくとも一種の錯化合物を添加し、加水分解重縮合させて得られる無機質コーティング剤を用いて無機質膜を形成する方法。

請求項（抜粋）：

(I)(a)アルコキシル基及びハロゲン原子から選ばれた少なくとも一種の置換基を有するシリル基を側鎖に有するアクリル樹脂、(b)一般式(1):R1aSiClb(OH)c(OR2)d(式中、R1はアミノ基及びカルボキシル基から選ばれた少なくとも一種の置換基を有することのある炭素数1〜8の1価炭化水素基を示し、R2は、置換基としてアルコキシル基を有することのある炭素数1〜8の1価炭化水素基を示し、aは、0〜3の整数、bは0〜2の整数、cは、0〜3の整数、dは0〜4の整数であって、a+b+c+d=4である)で表される化合物、及びその縮重合反応生成物から選ばれた少なくとも一種のケイ素含有化合物、並びに(c)ジルコニウム化合物、チタニウム化合物及びアルミニウム化合物から選ばれた少なくとも一種の、有機溶媒に溶解又は均一に分散できる金属化合物を有機溶媒に溶解又は分散させてなるプライマー組成物を、基材上に塗布し、硬化又は半硬化状態としてプライマー皮膜を形成した後、(II)水-有機溶媒混合溶媒中でケイ素含有アルコキシド化合物を加水分解させた後、Zr錯体、Al錯体及びTi錯体から選ばれた少なくとも一種の錯化合物を添加し、加水分解重縮合させて得られる無機質コーティング剤を、該プライマー皮膜上に塗布し、硬化させることを特徴とする無機質膜の形成方法。

IPC (3件)：

C09D183/00 ,  B05D 7/24 302 ,  C09D185/00

FI (3件)：

C09D183/00 ,  B05D 7/24 302 B ,  C09D185/00

Fターム (45件)：

4D075CA13 ,  4D075CA38 ,  4D075CA44 ,  4D075EC08 ,  4J038CG141 ,  4J038CG142 ,  4J038CH031 ,  4J038CH032 ,  4J038CH041 ,  4J038CH042 ,  4J038CH071 ,  4J038CH072 ,  4J038CH081 ,  4J038CH082 ,  4J038CH121 ,  4J038CH161 ,  4J038CH221 ,  4J038CH231 ,  4J038DB221 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038GA04 ,  4J038GA06 ,  4J038GA07 ,  4J038GA09 ,  4J038GA14 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038JC38 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038KA12 ,  4J038MA14 ,  4J038NA03 ,  4J038NA04 ,  4J038NA05 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038PA19 ,  4J038PB05 ,  4J038PC02 ,  4J038PC03 ,  4J038PC04 ,  4J038PC06 ,  4J038PC08