特許
J-GLOBAL ID:200903098057709826

X線分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 最上 健治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-104108
公開番号(公開出願番号):特開2000-292382
出願日: 1999年04月12日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】 分解能がよく且つ高次線のX線をカットすることが可能な高精度のX線分析装置を提供する。【解決手段】 X線管球1から出射された1次X線2を試料3に照射し、試料3から発生する蛍光X線4をWDS分光器5により分光させ、分光されたX線6をEDS検出器7で検出するように構成する。これにより、試料からの蛍光X線を直接EDS検出器で検出する場合より分解能を向上させることができ、またEDS検出器で検出するため、WDS分光器で励起される高次X線をカットし、高精度の測定を行うことができる。
請求項(抜粋):
試料に一次線を照射して試料から発生するX線を検出して試料を分析するX線分析装置において、試料で励起されたX線を分光するWDS分光器と、該WDS分光器で分光されたX線を検出するEDS検出器とを備えていることを特徴とするX線分析装置。
IPC (2件):
G01N 23/223 ,  G01N 23/225
FI (2件):
G01N 23/223 ,  G01N 23/225
Fターム (13件):
2G001AA01 ,  2G001AA03 ,  2G001BA04 ,  2G001BA05 ,  2G001CA01 ,  2G001DA02 ,  2G001EA01 ,  2G001EA03 ,  2G001EA20 ,  2G001GA01 ,  2G001JA06 ,  2G001JA20 ,  2G001KA01

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