特許
J-GLOBAL ID:200903098057709826
X線分析装置
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
最上 健治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-104108
公開番号(公開出願番号):特開2000-292382
出願日: 1999年04月12日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】 分解能がよく且つ高次線のX線をカットすることが可能な高精度のX線分析装置を提供する。【解決手段】 X線管球1から出射された1次X線2を試料3に照射し、試料3から発生する蛍光X線4をWDS分光器5により分光させ、分光されたX線6をEDS検出器7で検出するように構成する。これにより、試料からの蛍光X線を直接EDS検出器で検出する場合より分解能を向上させることができ、またEDS検出器で検出するため、WDS分光器で励起される高次X線をカットし、高精度の測定を行うことができる。
請求項(抜粋):
試料に一次線を照射して試料から発生するX線を検出して試料を分析するX線分析装置において、試料で励起されたX線を分光するWDS分光器と、該WDS分光器で分光されたX線を検出するEDS検出器とを備えていることを特徴とするX線分析装置。
IPC (2件):
G01N 23/223
, G01N 23/225
FI (2件):
G01N 23/223
, G01N 23/225
Fターム (13件):
2G001AA01
, 2G001AA03
, 2G001BA04
, 2G001BA05
, 2G001CA01
, 2G001DA02
, 2G001EA01
, 2G001EA03
, 2G001EA20
, 2G001GA01
, 2G001JA06
, 2G001JA20
, 2G001KA01
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