特許

J-GLOBAL ID：200903098067790648

薄膜及びその製造方法、並びにガラス

発明者： 渡部 俊也 ,  吉田 直哉 ,  横西 遼祐
出願人/特許権者： 国立大学法人 東京大学
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-057494
公開番号（公開出願番号）：特開2009-213954
出願日： 2008年03月07日
公開日（公表日）： 2009年09月24日
要約：

【課題】光照射後においても撥水性を維持し、更に、耐久性及び有機物分解性をも備えた薄膜を提供する。【解決手段】酸化ジルコニウム又は酸化ハフニウム及び結晶化した酸化チタンを含む薄膜であって、光照射に対し、水に対する接触角が40°以上を維持することを特徴とする薄膜である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸化ジルコニウム又は酸化ハフニウム及び結晶化した酸化チタンを含む薄膜であって、光照射に対して、水に対する接触角が40°以上を維持することを特徴とする薄膜。

IPC (4件)：

B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ,  B01J 37/08 ,  C03C 17/25

FI (4件)：

B01J35/02 J ,  B01J21/06 M ,  B01J37/08 ,  C03C17/25 A

Fターム (36件)：

4G059AA01 ,  4G059AC22 ,  4G059AC30 ,  4G059EA01 ,  4G059EA04 ,  4G059EB05 ,  4G169AA02 ,  4G169AA05 ,  4G169AA08 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BA14A ,  4G169BA14B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC52A ,  4G169BC52B ,  4G169EA07 ,  4G169ED01 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB23 ,  4G169FB29 ,  4G169FC07 ,  4G169HA04 ,  4G169HA20 ,  4G169HB01 ,  4G169HB06 ,  4G169HD10 ,  4G169HE01 ,  4G169HE12 ,  4G169HF02 ,  4G169HF03 ,  4G169HF09

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 滑水性表面を有する部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-057039   出願人：東陶機器株式会社
• 滑水性膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-294636   出願人：株式会社先端科学技術インキュベーションセンター

審査官引用 (1件)

• 複合酸化物薄膜およびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-169398   出願人：エヌオーケー株式会社