特許
J-GLOBAL ID：200903098071743646
位相シフトマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-125366
公開番号（公開出願番号）：特開平5-150440
出願日： 1991年04月26日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】有機材料を加熱して位相シフト部を形成する技術において、Cr等から成る遮光部パターンの歪や変形、石英等から成る基板の変形等を防止して、良好な位相シフト効果をもつ位相シフトマスクを得る。【構成】SOGやレジスト等の位相シフト部形成用有機材料のみを選択的に加熱する赤外線を用いて、これにより基板や遮光部材料の昇熱を抑えるようにして、位相シフト部を形成する。
請求項（抜粋）：
有機材料を加熱することにより位相シフト部を形成する位相シフトマスクの製造方法において、前記加熱は赤外線を用い、赤外線は前記有機材料を選択的に加熱する波長0.8〜8μmのものである位相シフトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
