特許

J-GLOBAL ID：200903098072924377

3-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロフラン類の製造方法

発明者： 脇田 健夫 ,  松野 裕泉 ,  小高 建次
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-099301
公開番号（公開出願番号）：特開平8-291159
出願日： 1995年04月25日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】【目的】 3-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロフラン類の、安価で経済的な製造方法を提供する。【構成】 式(1)(式中、R1 、R2 、R3 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基を表す。)で表される2-ヒドロキシメチル-1,4-ブタンジオール誘導体を、2-ヒドロキシメチル-1,4-ブタンジオール誘導体1当量にたいして、0.00001から0.1当量の酸触媒の存在下、環化させることを特徴とする式(2)(式中、R1 、R2 、R3 は前記の意味を表す。)で表される3-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロフラン誘導体の製造方法。

請求項（抜粋）：

式(1)(化1)【化1】(式中、R1 、R2 、R3 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基を表す。)で表される2-ヒドロキシメチル-1,4-ブタンジオール誘導体を、2-ヒドロキシメチル-1,4-ブタンジオール誘導体1当量にたいして、0.00001から0.1当量の酸触媒の存在下、環化させることを特徴とする式(2)(化2)【化2】(式中、R1 、R2 、R3 は前記の意味を表す。)で表される3-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロフラン誘導体の製造方法。

IPC (6件)：

C07D307/12 ,  B01J 27/02 ,  B01J 27/06 ,  B01J 27/16 ,  B01J 31/02 103 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07D307/12 ,  B01J 27/02 X ,  B01J 27/06 X ,  B01J 27/16 X ,  B01J 31/02 103 X ,  C07B 61/00 300