特許
J-GLOBAL ID：200903098095544148
試料表面の観察方法及びその装置並びに欠陥検査方法及びその装置
発明者：
,
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-263149
公開番号（公開出願番号）：特開2000-155099
出願日： 1999年09月17日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：
【要約】【課題】試料表面に形成したパターンの欠陥を検出する欠陥検出光学系において、照明光により試料表面で反射した反射光の0次光と高次回折光の干渉により形成される試料の光学像のコントラストを向上させることにより、試料上に形成された微細な配線パターンの欠陥を感度良く検出する。【解決手段】試料を偏光照明する照明光学系と、試料で偏光回転を受けた高次回折光を0次光よりも効率良く透過する偏光光学部品と、偏光光学部品を透過あるいは反射した光で試料の像を光電変換素子上に結像させる検出光学系とを用いて高解像度光学系を構成した。
請求項（抜粋）：
表面にパターンが形成された試料を観察する方法であって、偏光した光を対物レンズを介して前記試料に照射し、該照射により前記試料の表面で反射した光を前記対物レンズを介して検出して前記偏光した光の前記試料表面での焦点の光軸方向の位置ずれを算出し、該算出した焦点の位置ずれ量に応じて前記対物レンズに対する前記試料の高さを調整し、該高さを調整した前記試料の表面からの前記偏光した光の照射による反射光を前記対物レンズと位相差板と検光子とを介して検出して前記試料の表面の画像を得ることを特徴とする試料表面の観察方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/88 H
, G01N 21/956 A
