特許
J-GLOBAL ID：200903098099694918
合わせずれ測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大澤 斌 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-022656
公開番号（公開出願番号）：特開2003-224061
出願日： 2002年01月31日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：
【要約】【課題】 合わせずれの真の値に最も近似する合わせずれ測定値を求めるようにした合わせずれ測定方法を提供する。【解決手段】 本合わせずれ測定方法は、合わせずれ測定機を使って、前工程で被露光体上に形成されているパターンと、前工程に続く後工程で被露光体上に転写するパターンとの合わせずれをそれぞれのパターンに設けられた合わせずれ測定マークにより測定するに当たり、合わせずれ測定機に最適な合わせずれ測定手法を見い出して、合わせずれを測定する方法である。本方法では、被露光体W上に一様に分散された合わせずれ測定点32にパターンの合わせずれ測定マークを配置し、各合わせずれ測定マークの合わせずれを複数種類の測定手法により測定するステップと、各合わせずれ測定マークの合わせずれ測定値のばらつきを各測定手法毎に求めるステップと、ばらつきの最も小さい測定手法を合わせずれ測定機に最適な測定手法として選定するステップとを有する。
請求項（抜粋）：
前工程で被露光体上に形成されているパターンと、前記前工程に続く後工程で前記被露光体上に転写するパターンとの合わせずれをそれぞれのパターンに設けられた合わせずれ測定マークに基づき合わせずれ測定機を使って測定するに当たり、前記合わせずれ測定機に最適な合わせずれ測定手法を見い出して、合わせずれを測定する方法であって、前記被露光体上に一様に分散された合わせずれ測定点にパターンの合わせずれ測定マークを配置し、前記各合わせずれ測定マークの合わせずれを複数種類の測定手法により測定するステップと、各合わせずれ測定マークの合わせずれ測定値のばらつきを前記各測定手法毎に求めるステップと、前記ばらつきの最も小さい測定手法を前記合わせずれ測定機に最適な測定手法として選定するステップとを有することを特徴とする合わせずれ測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 R
5F046EA04
, 5F046EB02
, 5F046FA17
, 5F046FB17
