特許

J-GLOBAL ID：200903098104337789

超微粒子分散材料およびその製造方法

発明者： 近藤 均
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-154686
公開番号（公開出願番号）：特開平9-005807
出願日： 1995年06月21日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：

【要約】【目的】充分な量子閉じ込め効果が得られると共に光散乱による効率の低下を起こさない新規な超微粒子分散材料及びその製造方法を提供する。【構成】本発明は、マトリックス中に超微粒子を分散した超微粒子分散材料において、マトリックス体が非晶質炭素膜であることを特徴とする。その製造方法としては例えば、平行平板型の電極3の片側に基板8を設置し、対向側を超微粒子となる半導体材料のターゲット2とし、ガス導入口5から真空チャンバー1内に炭化水素ガス等を供給しながらRF電源7により基板側電極3にRFを給電することにより基板8上に非晶質炭素膜を堆積させ、次いでガス種を希ガスに変えてRF電源6により半導体ターゲット2にRFを給電することにより基板8上に半導体超微粒子を堆積させる。そしてこの操作を繰り返すことによって非晶質炭素膜中に半導体超微粒子が分散した超微粒子分散膜が得られる。

請求項（抜粋）：

マトリックス中に超微粒子を分散した超微粒子分散材料において、マトリックス体が非晶質炭素膜であることを特徴とする超微粒子分散材料。