特許
J-GLOBAL ID：200903098110124797
高周波照射を用いた染色方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-196062
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013376
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：
【要約】【課題】 高周波照射により簡単に模様を染め上げる方法を提供すること。【解決手段】 載置台1に被染物2を載置し、さらにその上に高周波透過体3を載置して高周波照射する方法とした。この方法によれば、高周波透過体の近辺では高周波が収束してくるので、被染物2のこの部分に対応する部分は強い高周波照射を受けることになる。このためこの部分の染液は移動し染液の少ない部分となる。したがって、この部分の色合は他の部分と異なり、淡く白抜きをしたような状態となり、模様が形成される。
請求項（抜粋）：
染液を含浸した被染物の少なくとも一部に、模様を有する型を重ねて高周波照射し、前記型が有する模様に応じた模様を染色する高周波照射を用いた染色方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
D06P 5/20 D
, H05B 6/80 Z
3K090LA00
, 3K090PA00
, 3K090PA04
, 4H057BA81
, 4H057DA81
, 4H057FA16
, 4H057FA33
, 4H057GA07
, 4H057HA02
, 4H057JA04
, 4H057JB02
