特許

J-GLOBAL ID：200903098121599380

膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜

発明者： 杉浦 誠 ,  黒澤 孝彦 ,  後藤 幸平 ,  山田 欣司
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-104169
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299316
出願日： 1999年04月12日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 塗膜の均一性、誘電率特性、耐熱性、機械特性等に優れた膜形成用組成物、該組成物を硬化して得られる膜を得る。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表される化合物の加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方 R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)、(B)アルキレングリコール系溶媒、(C)エステル系溶媒およびケトン系溶媒から選ばれる少なくとも1種、(D)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される化合物の加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)(B)アルキレングリコール系溶媒(C)エステル系溶媒およびケトン系溶媒から選ばれる少なくとも1種ならびに(D)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (2件)：

H01L 21/316 ,  C09D183/04

FI (2件)：

H01L 21/316 G ,  C09D183/04

Fターム (25件)：

4J038CG142 ,  4J038CH032 ,  4J038CH042 ,  4J038CH132 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038DL051 ,  4J038DL071 ,  4J038DL081 ,  4J038JA26 ,  4J038JA27 ,  4J038JA57 ,  4J038KA06 ,  4J038NA01 ,  4J038NA17 ,  4J038NA26 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  5F058AA03 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH01 ,  5F058AH02