特許

J-GLOBAL ID：200903098125698838

投影露光装置

発明者： 安田 雅彦 ,  水谷 真士
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 梶原 康稔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-303684
公開番号（公開出願番号）：特開平10-135122
出願日： 1996年10月29日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 マスクに伸縮,ずれ,回転などの変位が生じても、良好にパターン像の投影を行う。【解決手段】 露光によってマスク10の温度が上昇して変位が生じると、マスク変位検出器24の圧電素子28A〜28Hは、マスクの変位に対応する電圧を各々出力する。これらの電圧は、電位差検出器30で検出され、演算装置32に供給される。演算装置32では、圧電素子28A〜28Hの出力電圧から投影パターン像の変位が算出される。演算結果は、投影光学系制御装置34又はステージ制御装置36に供給される。投影光学系制御装置34では、投影光学系18が制御されてパターン像の投影倍率が補正される。ステージ制御装置36では、ウエハステージ22が制御されてウエハ20の位置や回転が補正される。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を露光対象に投影する投影露光装置において、前記マスクの変位を検出するマスク変位検出手段;このマスク変位検出手段によって検出された前記マスクの変位から、前記露光対象に投影されるパターンの像の変化を算出する演算手段;この演算手段によって算出された前記パターンの像の変化を補正する補正手段;を備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 503 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 B