特許
J-GLOBAL ID：200903098128563771
反射型露光用マスクとパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-108701
公開番号（公開出願番号）：特開平7-319147
出願日： 1994年05月23日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：
【要約】【目的】 透過型マスクの持つ光照射による劣化という問題点を克服し、かつ基板表面と位相シフト部における反射光の位相差180度を実現し得る反射型位相シフトマスクを提供することにある。【構成】 光の反射により位相差のある反射光を形成してパターンの露光に供される反射型位相シフトマスクにおいて、露光光を反射する基板12と、この基板12上の一部に形成された位相シフト膜11と、基板12及び位相シフト膜11上に形成された光伝達媒体10と、光伝達媒体10上に形成された反射防止膜13とを具備し、基板12で反射された光と位相シフト膜11で反射された光との位相差が180度となるよう設定し、かつ位相シフト膜11で反射された光の位相と位相シフト膜11を透過し基板12で反射されて位相シフト膜11から出る光の位相とが等しくなるように、各部の屈折率及び膜厚を設定したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光の反射により位相差のある反射光を形成してパターンの露光に供される反射型露光用マスクにおいて、露光光を反射する基板と、この基板上の一部に形成された位相シフト膜とを具備し、前記基板で反射された光と前記位相シフト膜で反射された光との位相差が略180度となるよう設定し、かつ前記位相シフト膜で反射された光の位相と前記位相シフト膜を透過し前記基板で反射されて前記位相シフト膜から出る光の位相とが等しくなるよう設定したことを特徴とする反射型露光用マスク。
IPC (2件)：
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