特許
J-GLOBAL ID：200903098129466923
投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-086197
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262747
出願日： 1995年03月17日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】レチクルとウエハとを高精度に位置合せでき、高集積度の半導体装置が得られる投影露光装置及びそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。【構成】露光用照明系4からの露光光で照明した第1物体としてのレチクル3のパターンを第2物体であるウエハ2上に投影する射出テレセントリックな投影レンズ系1と、ウエハ面上に設けた、アラインメントマークを観察用照明系35からの観察光で投影レンズ系1を介して照明すると同時に、該マークの所定面上における結像位置の観察によりレチクル3とウエハ2の相対的位置関係を検出する観察手段と、投影レンズのウエハ側での焦点誤差に基ずく観察手段による計測値の誤差の計測手段をもつ投影露光装置である。観察手段はウエハマークの観察位置を任意に変更できる移動機構20と、計測誤差を最小にするための観察光主光線の光路調整用の補正光学系101を有している。
請求項（抜粋）：
露光用照明系からの露光光で照明した第1物体のパターンを第2物体上に投影する射出テレセントリックな投影レンズ系と、該第2物体に設けたマークを観察用照明系からの観察光で該投影レンズ系を介して照明すると共に、該投影レンズ系を介して該マークの所定面上における結像位置を観察することにより該第1物体と第2物体の相対的な位置関係を検出する観察手段と該投影レンズの該第2物体側におけるフォーカス誤差に起因する該観察手段による計測値の計測誤差を計測する手段を有した投影露光装置において該観察手段は該第2物体のマークの観察位置を任意に変えることのできる移動機構と、該計測誤差を最小にする為、該観察光の主光線の光路を調整する補正光学系とを有していることを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件)：
G03F 9/00
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G03F 9/00 H
, G03B 27/32 F
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 A
