特許

J-GLOBAL ID：200903098141696497

液体処理方法、液体処理装置、及び電気光学パネル

発明者： 岩田 信一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-383028
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188140
出願日： 2001年12月17日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
要約：

【要約】【課題】 基板を液体内に浸漬させた状態で気泡を導入して液体処理を行う場合に、気泡が被処理面に対して十分な処理能力を発揮することで、液体処理の効率化を図ること、特に複数の基板を同時に液体処理する場合の効率化を図ること。【解決手段】 基板102を純水201中に浸漬させる洗浄槽103と、純水201中に気泡200を導入する気泡導入部104と、気泡200が基板102の被洗浄面102aに沿って移動するように基板102を所定角度θ傾けるカセット101とを有する。

請求項（抜粋）：

基板を液体中に浸漬させる浸漬工程と、前記液体中に気泡を導入する気泡導入工程とを含む液体処理方法において、前記気泡が前記基板の被処理面に沿って移動するように前記基板を傾けることを特徴とする液体処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 642 ,  B08B 3/04 ,  B08B 5/00 ,  G02F 1/1333 500

FI (5件)：

H01L 21/304 648 Z ,  H01L 21/304 642 A ,  B08B 3/04 Z ,  B08B 5/00 Z ,  G02F 1/1333 500

Fターム (17件)：

2H090HC17 ,  2H090HC18 ,  2H090HC19 ,  2H090HC20 ,  2H090JC19 ,  3B116AA01 ,  3B116AB43 ,  3B116BB02 ,  3B116BB33 ,  3B116BB88 ,  3B201AA01 ,  3B201AB43 ,  3B201BB02 ,  3B201BB33 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98